Plasmagestützte Nanostrukturierung von ETFE-Folie

Für die Untersuchung der Strukturbildung auf Ethylentetrafluorethylen-Folie (ETFE) im Plasmaätzprozess wird ein Doppel-Magnetron-System als Plasmaquelle genutzt. Im Plasma gebildete negative Sauerstoffionen interagieren mit dem Polymer und führen zur Strukturierung.
Durch Variation der Energiedosis im Prozess werden die Strukturbildung und die optisch entspiegelnde Wirkung der Strukturen beeinflusst. Der Zusammenhang zwischen dem Plasmaparameter „Energiedosis“, der Transmissionsänderung und den Strukturdimensionen wird dargestellt und diskutiert. Die verwendeten Charakterisierungsmethoden werden vorgestellt und bewertet.
Der Einfluss der kristallinen Bereiche auf die Strukturbildung wird anhand monoaxial verstreckten ETFEs untersucht. Der Zusammenhang zwischen Strukturbildung und den kristallinen Bereichen des ETFE wird untersucht und diskutiert.
Abschließend wird die Stabilität des nanostrukturierten ETFE gegenüber Witterungseinflüssen für Anwendungen im Außenbereich dargestellt.