Skip to the end of the images gallery Navigation umschalten
Skip to the beginning of the images gallery Navigation umschalten
Ätzen von Titannitrid mit Halogenverbindungen
Kammerreinigung mit externer Plasmaquelle
Paperback
136 Seiten
ISBN-13: 9783839106938
Verlag: Books on Demand
Erscheinungsdatum: 25.06.2009
Sprache: Deutsch
Farbe: Ja
8,90 €
inkl. MwSt. / portofrei
Ihr eigenes Buch!
Werden Sie Autor*in mit BoD und erfüllen Sie sich den Traum vom eigenen Buch und E-Book.
Mehr erfahrenMit zunehmender Miniaturisierung mikroelektronischer Bauelemente steigen die Anforderungen an reproduzierbare qualititätskonforme Schichten. Um die zur herstellung notwendigen ALD/PVD/CVD-Schichtabscheideanlagen in einen zuverlässigen Zustand zu versetzen, ist eine regelmäßige Kammerreinigung notwendig.
Im vorliegenden Buch wird am Beispiel der Remote Plasma Source (RPS)-Kammerreinigung von TiN-Abscheideanlagen ein systematischer Ansatz zur Untersuchung der relevanten Parameter vorgestellt. Mit den Meßmethoden QMS, FTIR, OES, XPS, Interferometrie werden die Besonderheiten von Fluor/Chlor-Interhalogenmischungen gezeigt und die zugrunde liegenden Mechanismen beschrieben.
Eine effektive Methode zur TiN-Kammerreinigung bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken wird vorgeschlagen.
Erstmalig wurde die Verwendung von molekularem Fluor mit RPS-Plasma als Kammerreinigungsgas untersucht und die Ätz-Effektivität mit der des NF3 verglichen. Die Anwendung von Fluor in Trägergas für Reinigungsprozesse in der Mikroelektronik oder Photovoltaik stellt sich vorteilhaft dar.
Im vorliegenden Buch wird am Beispiel der Remote Plasma Source (RPS)-Kammerreinigung von TiN-Abscheideanlagen ein systematischer Ansatz zur Untersuchung der relevanten Parameter vorgestellt. Mit den Meßmethoden QMS, FTIR, OES, XPS, Interferometrie werden die Besonderheiten von Fluor/Chlor-Interhalogenmischungen gezeigt und die zugrunde liegenden Mechanismen beschrieben.
Eine effektive Methode zur TiN-Kammerreinigung bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken wird vorgeschlagen.
Erstmalig wurde die Verwendung von molekularem Fluor mit RPS-Plasma als Kammerreinigungsgas untersucht und die Ätz-Effektivität mit der des NF3 verglichen. Die Anwendung von Fluor in Trägergas für Reinigungsprozesse in der Mikroelektronik oder Photovoltaik stellt sich vorteilhaft dar.
Eigene Bewertung schreiben
Es sind momentan noch keine Pressestimmen vorhanden.